氨逃逸激(ji)光(guang)(guang)氣體分(fen)析儀是(shi)一款基于可(ke)調(diao)諧二極(ji)管(guan)激(ji)光(guang)(guang)吸(xi)(xi)(xi)收(shou)(shou)光(guang)(guang)譜(TDLAS)氣體分(fen)析系統(tong)，主(zhu)要(yao)基于可(ke)調(diao)諧半導體激(ji)光(guang)(guang)吸(xi)(xi)(xi)收(shou)(shou)光(guang)(guang)譜技術，采用近紅外可(ke)調(diao)式激(ji)光(guang)(guang)器(qi)（TDL）作為(wei)光(guang)(guang)源的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)譜吸(xi)(xi)(xi)收(shou)(shou)氣體檢(jian)測系統(tong)。其特(te)定(ding)氣體只吸(xi)(xi)(xi)收(shou)(shou)特(te)定(ding)波長的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)譜，依據Beer-Lambert定(ding)律，一束單色光(guang)(guang)照射吸(xi)(xi)(xi)收(shou)(shou)介質(zhi)(zhi)表(biao)面，在通過一定(ding)厚度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)介質(zhi)(zhi)后，由于介質(zhi)(zhi)吸(xi)(xi)(xi)收(shou)(shou)了一部分(fen)光(guang)(guang)能(neng)，透射光(guang)(guang)的(de)(de)(de)(de)(de)強(qiang)(qiang)度(du)(du)就(jiu)要(yao)減弱。吸(xi)(xi)(xi)收(shou)(shou)介質(zhi)(zhi)的(de)(de)(de)(de)(de)濃(nong)度(du)(du)愈(yu)大(da)，介質(zhi)(zhi)的(de)(de)(de)(de)(de)厚度(du)(du)愈(yu)大(da)，則光(guang)(guang)強(qiang)(qiang)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)減弱愈(yu)顯著，即吸(xi)(xi)(xi)收(shou)(shou)的(de)(de)(de)(de)(de)強(qiang)(qiang)度(du)(du)與氣體濃(nong)度(du)(du)成正比，通過氣體吸(xi)(xi)(xi)收(shou)(shou)強(qiang)(qiang)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)檢(jian)測，計算(suan)出特(te)定(ding)氣體的(de)(de)(de)(de)(de)濃(nong)度(du)(du)，激(ji)光(guang)(guang)器(qi)發出初(chu)始光(guang)(guang)強(qiang)(qiang)為(wei)，頻率為的(de)單色激(ji)光(guang)，通(tong)過吸收介質后接收的(de)激(ji)光(guang)強度I為(wei)：

                  (1)

：氣體吸收線(xian)的中心頻率

S：吸收線強

T：溫度

：吸收線型函數(shu)

c：氣體分(fen)子數濃度

P：壓力(li)

L：吸(xi)收(shou)光(guang)程

氨氣近(jin)紅外分子(zi)吸收(shou)滿(man)足條件，使用吸(xi)光度A表示(shi)氣(qi)體(ti)對光的吸(xi)收，則(ze)有：

             (2)

提取氣體有效吸收(shou)光(guang)譜獲得吸光(guang)度(du)，得到(dao)氣體濃度(du)c為：

    結(jie)合先進的(de)光機設計、微弱信號檢(jian)測技(ji)術(shu)、計算(suan)機軟(ruan)硬件技(ji)術(shu)實現。利用(yong)了(le)半導體(ti)激光器的(de)窄線(xian)寬和(he)波(bo)長(chang)可調諧特(te)性(xing)，掃描目標氣(qi)(qi)體(ti)分(fen)子的(de)單根吸收(shou)譜線(xian)，從(cong)而(er)實現氣(qi)(qi)體(ti)濃(nong)度的(de)高靈(ling)敏在(zai)線(xian)檢(jian)測；實現了(le)氣(qi)(qi)體(ti)紅外激光吸收(shou)光譜的(de)自(zi)動測量、濃(nong)度定(ding)量分(fen)析、監(jian)測結(jie)果顯示及數據(ju)儲存等功能(neng)(neng)。已經(jing)在(zai)多個(ge)水(shui)(shui)泥廠，發(fa)電(dian)廠用(yong)于氨(an)逃逸(yi)在(zai)線(xian)監(jian)測，獲得了(le)長(chang)期的(de)，精確(que)的(de)NH3逃逸(yi)水(shui)(shui)平數據(ju)。通過TDLAS激光氣(qi)(qi)體(ti)分(fen)析儀實時在(zai)線(xian)監(jian)測逃逸(yi)的(de)NH3從(cong)而(er)優化了(le)加入(ru)到反應器內的(de)氨(an)量。這些數據(ju)已經(jing)用(yong)來作(zuo)為監(jian)控(kong)和(he)評估NOX排放控(kong)制(zhi)系統效能(neng)(neng)水(shui)(shui)平的(de)依據(ju)。提(ti)高我國工(gong)業廢氣(qi)(qi)激光在(zai)線(xian)監(jian)測的(de)水(shui)(shui)平，為控(kong)制(zhi)有(you)毒有(you)害氣(qi)(qi)體(ti)排放和(he)減少污染事故的(de)發(fa)生提(ti)供技(ji)術(shu)保障(zhang)。